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產(chǎn)品展示
皮膚科準分子氣體
皮膚科準分子氣體


 作為較先進(jìn)的治療白癜風(fēng)、牛皮癬，白斑病的儀器技術(shù)，最初是美國發(fā)明的，作為較先進(jìn)的治療白癜風(fēng)和牛皮癬，用于皮膚科臨床治療的308 nm準分子激光是準分子激光的一種,即氯化氙(XeCl)準分子激光,屬連續的脈沖氣體激光,其波長(cháng)在UVB范圍內,脈沖寬度一般為l0～30 ns左右。臨床上治療用的激光發(fā)射器有Xtrac ( PhotoMedex,USA ) [ 4～6 ]、Lambda Physics LPX105E[ 2, 3, 7, 8 ]以及其他類(lèi)型的發(fā)射器[ 9 ] ,常包括XeCl氣體系統,由于XeCl二聚體由惰性氣體氙(最外層有8個(gè)電子)和鹵素氯(最外層有7個(gè)電子)組成,在電流激活時(shí)以結合狀態(tài)存在,而發(fā)出脈沖式激光。不同的激光發(fā)射器參數略有不同,以Xtrac AL7000為例,其所發(fā)308 nm 激光脈寬為30 ns,重復頻率為154 Hz,單脈沖能量密度為2～3 mJ / cm2 ,采用液體光導光纖傳輸激光,可形成2 cm ×2 cm的方形光斑,在治療過(guò)程中可根據需要調整光斑或選擇合適的劑量以達到較佳治療效果。在臨床用各型激光發(fā)射器均操作方便,操作者可以手持發(fā)射,手柄僅在皮損上移動(dòng),均勻照射所有皮損,也可固定于一個(gè)部位照射一段時(shí)間后,移至臨近部位。


激發(fā)308 nm準分子激光的重要耗材為XeCl預混氣體，其實(shí)質(zhì)是Xe,HCl,Ne等氣體針對特定的品牌和機型按特定的比例預混的。目前PUREGAS可以提供幾乎市場(chǎng)上所有品牌的皮膚科準分子激光設備所用的XeCl預混氣體


PUREGAS準分子激光預混氣的優(yōu)點(diǎn)：

采用高1級別純度的原料氣體

采用自動(dòng)化氣體預混系統配制，有效降低人為因素影響

包裝鋼瓶采用特有的的鈍化技術(shù)，有效保證微量HCl,的比例.保證可靠的穩定性

提供專(zhuān)1業(yè)的一體化服務(wù)，包括所有皮膚科準分子設備的換氣和維修服務(wù)！









21微加工準分子激光預混氣


工業(yè)技術(shù)的升級轉型需要平衡日益增長(cháng)的性能需求與加工速度及制造成本之間的矛盾。準分子激光的誕生，以其高光子能量所稱(chēng)著(zhù)，在對突破材料限制需求越來(lái)越迫切的時(shí)代，準分子激光器再次站在了尖端工業(yè)激光解決方案的最前沿。作為當今最有效、最可靠的脈沖紫外激光技術(shù)的代表，準分子激光器有效地推進(jìn)了諸如半導體、AMOLED平板顯示、薄膜、硅底板加工、有機金屬沉淀、高溫超導、刻蝕、材料研究、汽車(chē)制造、生物醫療、光纖、鉆石打標設備及可替代能源等多種成長(cháng)型工業(yè)中的技術(shù)革新。準分子激光氣體是用于準分子激光設備中的激光發(fā)生器的關(guān)鍵氣體


常見(jiàn)的準分子激光氣體和波長(cháng)相關(guān)：

可用波長(cháng)

193 nm

ArF

248 nm

KrF

308 nm

XeCl

450nm~520nm

XeF


   

而具體的配比和包裝物和準分子激光設備的品牌和型號相關(guān)：


品 牌

機 型

波 長(cháng)

準分子激光氣體

ATL

ATL ARF-1

193 nm

F2,Ar,Xe,Ne

ATL KRF-1

248 nm

F2,Kr,Xe,Ne

TUI

CTFTS-ARFV 2.2

193 nm

F2,Ar,He,Ne

CTFTS-KRFV 2.1

248 nm

F2,Kr,He,Ne

CTFTS-KRFV 2.2

248 nm

F2,Kr,He,Xe,Ne

CTMD-ARFV 2.0

193 nm

F2,Ar,He,O2,Ne

CTMD-XECLV 2.1

308 nm

HCl,H2,Xe,Ne

CTMN-ARFV 2.0

193 nm

F2,Ar,He,Ne

CTMN-ARFV 2.1

193 nm

F2,Ar,He,Ne

CTMN-KRFV 1.0

248 nm

F2,Kr,He,Ne

CTMN-KRFV 2.0

248 nm

F2,Kr,He,Ne

CTMN-XECLV 2.0

308 nm

HCl,H2,Xe,Ne

CTMN-XECLV 5.0

308 nm

HCl,H2,Xe,Ne

CTMN-XEFV 1.1

450nm~520nm

F2,Xe,He,Ne

CTMN-XEFV 1.2

450nm~520nm

F2,Xe,He,Ne

GAM Laser

EX5 ArF

193 nm

F2,Ar,He,O2,Ne

EX5 KrF

248 nm

F2,Kr,He,Ne

EX5 XeCl

308 nm

HCl,H2,Xe,Ne

EX10

193 nm

F2,Ar,He,Ne

EX50

193 nm

F2,Ar,He,Ne

EX100

193 nm

F2,Ar,He,Ne

Photomedex

XeCl

308 nm

HCl,Xe,Ne

Photoscribe

ArF

193 nm

F2,Ar,Ne

KrF

248 nm

F2,Kr,Ne

PotomacPhotonics

ArF

193 nm

F2,Ar,Ne

KrF

248 nm

F2,Kr,Ne

Spectranetics

XeCl

308 nm

HCl,H2,Xe,Ne



PUREGAS 只需要您提供所用激光設備的品牌型號和輸出激光的波長(cháng)，就可以為您提供所需的特定配比的準分子預混氣體！


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