半導體工業(yè)用的氣體統稱(chēng)電子氣體（Electronic Gases）。按其門(mén)類(lèi)可分為純氣，高純氣和半導體特殊材料氣體三大類(lèi)。特殊材料氣體主要用于外延，摻雜和蝕刻工藝；高純氣體主要用作稀釋氣和運載氣。電子氣體是特種氣體的一個(gè)重要分支。電子氣體按純度等級和使用場(chǎng)合，可分為電子級，LSI（大規模集成電路）級，VLSI（超大規模集成電路)級和ULSI(特大規模集成電路）級

供氣方式主要有三種：

    大規模供氣系統

大規模供氣系統主要針對大規模量產(chǎn)的8-12英寸（1英寸=25.4毫米） 超大規模集成電路廠(chǎng)（氣體種類(lèi)包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等），100MW以上的太陽(yáng)能電池生產(chǎn)線(xiàn)（氣體種類(lèi)包括NH3），發(fā)光二極管的磊晶工序線(xiàn)（氣體種類(lèi)包括NH3）、5代以上液晶顯示器工廠(chǎng)（氣體種類(lèi)包括4、3、NF3）、光纖（氣體種類(lèi)包括SiCl4）、硅材料外延生產(chǎn)線(xiàn)（氣體種類(lèi)包括HCL）等行業(yè)。它們的投資規模巨大，采用最先進(jìn)的工藝制程設備，用氣需求量大，對穩定和不間斷供應、純度控制和安全生產(chǎn)提出最嚴格的要求。

常規供氣系統

常規供氣系統主要應用于4-6英寸 大規模集成電路廠(chǎng)，50MW以下的太陽(yáng)能電池生產(chǎn)線(xiàn)，發(fā)光二極管的芯片工序線(xiàn)以及其它用氣量中等規模的電子行業(yè)。它們的投資規模中等，生產(chǎn)線(xiàn)可能是二手設備，對氣體純度控制的要求不苛刻，系統配備在滿(mǎn)足安全的前提下盡量簡(jiǎn)單，節省投資。

簡(jiǎn)單供氣系統

簡(jiǎn)單供氣系統主要針對4英寸及以下半導體芯片廠(chǎng)、半導體材料的科研機構等。它們的制程簡(jiǎn)單，通常不需要連續性供氣，對氣體供應系統的投資預算低，生產(chǎn)和管理人員欠缺安全意識。

由于氣體流量小，特種氣體氣源多采用普通鋼瓶（<50L）。輸送系統多采用半自動(dòng)氣瓶柜或氣瓶架，配置繼電器控制，自動(dòng)切換，手動(dòng)吹掃，手動(dòng)放空，有害性氣體配備緊急切斷閥。惰性氣體瓶架則采用全手動(dòng)系統，有些甚至用單瓶系統。共用一個(gè)氣體房，甚至沒(méi)有氣體房，特氣鋼瓶和輸送系統有時(shí)放在回風(fēng)夾道，或直接放在工藝制造設備旁邊。共用一個(gè)抽風(fēng)系統。

目前PUREGAS可以保證供應的電子氣體主要有：(詳情請點(diǎn)擊)

   氨氣 NH3

   氯化氫 HCl

   甲烷   CH4

   一氧化二氮 N2O

   溴化氫 HBr

   一氧化碳CO

   氖氣 Ne

   氪氣 Kr

   硅烷 SiH4

   三氟化氮 NF3

   四氟化碳 CF4

   三氟化硼 BF3

   六氟化硫 SF6

   三氟甲烷 CHF3

   六氟乙烷 C2F6

   八氟丙烷 C3H8

   八氟環(huán)丁烷C4F8

   二氯甲烷 CH2Cl2

   三氯硅烷 SiHCl3

   三氯化硼 BCl3