三氟化氮在常溫下是一種無(wú)色、無(wú)臭、性質(zhì)穩定的氣體，是一種強氧化劑。三氟化氮在微電子工業(yè)中作為一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，在離子蝕刻時(shí)裂解為活性氟離子，這些氟離子對硅和鎢化合物，高純三氟化氮具有優(yōu)異的蝕刻速率和選擇性（對氧化硅和硅），它在蝕刻時(shí)，在蝕刻物表面不留任何殘留物，是非常良好的清洗劑，同時(shí)在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的運用。

    三氟化氮，分子式：NF₃。氣體分子量：71.01，熔點(diǎn)：–206.8℃（1atm），沸點(diǎn)：–129℃（1atm），臨界溫度：–39.3℃，臨界壓力：44.02atm（4.46MPa），液體密度：1554 kg/m³（1atm，沸點(diǎn)時(shí)），氣體密度：2.95 kg/m（1atm,21℃），水中溶解度（1atm，22℃）：1.43×10-5當量濃度。純凈的NF3氣體是一種無(wú)色無(wú)味的氣體，當混入一定量的雜質(zhì)氣體后顏色發(fā)黃，同時(shí)會(huì )有發(fā)霉或刺激性氣味。NF3氣體不可燃，

但能助燃。當溫度超過(guò)350℃時(shí)，三氟化氮氣體會(huì )緩慢分解，分解時(shí)產(chǎn)生強氧化性氟。因此，在高溫下它是一種強氧化劑。CAS號：7783-54-2。危險性類(lèi)別：第2.3類(lèi)有毒氣體，在空氣中的最高允許含量為29mg/m