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產(chǎn)品展示
微加工準分子氣體
微加工準分子氣體


工業(yè)技術(shù)的升級轉型需要平衡日益增長(cháng)的性能需求與加工速度及制造成本之間的矛盾。準分子激光的誕生，以其高光子能量所稱(chēng)著(zhù)，在對突破材料限制需求越來(lái)越迫切的時(shí)代，準分子激光器再次站在了尖端工業(yè)激光解決方案的最前沿。作為當今最有效、最可靠的脈沖紫外激光技術(shù)的代表，準分子激光器有效地推進(jìn)了諸如半導體、AMOLED平板顯示、薄膜、硅底板加工、有機金屬沉淀、高溫超導、刻蝕、材料研究、汽車(chē)制造、生物醫療、光纖、鉆石打標設備及可替代能源等多種成長(cháng)型工業(yè)中的技術(shù)革新。準分子激光氣體是用于準分子激光設備中的激光發(fā)生器的關(guān)鍵氣體


常見(jiàn)的準分子激光氣體和波長(cháng)相關(guān)：

可用波長(cháng)

193 nm

ArF

248 nm

KrF

308 nm

XeCl

450nm~520nm

XeF


   

而具體的配比和包裝物和準分子激光設備的品牌和型號相關(guān)：


品 牌

機 型

波 長(cháng)

準分子激光氣體

ATL

ATL ARF-1

193 nm

F2,Ar,Xe,Ne

ATL KRF-1

248 nm

F2,Kr,Xe,Ne

TUI

CTFTS-ARFV 2.2

193 nm

F2,Ar,He,Ne

CTFTS-KRFV 2.1

248 nm

F2,Kr,He,Ne

CTFTS-KRFV 2.2

248 nm

F2,Kr,He,Xe,Ne

CTMD-ARFV 2.0

193 nm

F2,Ar,He,O2,Ne

CTMD-XECLV 2.1

308 nm

HCl,H2,Xe,Ne

CTMN-ARFV 2.0

193 nm

F2,Ar,He,Ne

CTMN-ARFV 2.1

193 nm

F2,Ar,He,Ne

CTMN-KRFV 1.0

248 nm

F2,Kr,He,Ne

CTMN-KRFV 2.0

248 nm

F2,Kr,He,Ne

CTMN-XECLV 2.0

308 nm

HCl,H2,Xe,Ne

CTMN-XECLV 5.0

308 nm

HCl,H2,Xe,Ne

CTMN-XEFV 1.1

450nm~520nm

F2,Xe,He,Ne

CTMN-XEFV 1.2

450nm~520nm

F2,Xe,He,Ne

GAM Laser

EX5 ArF

193 nm

F2,Ar,He,O2,Ne

EX5 KrF

248 nm

F2,Kr,He,Ne

EX5 XeCl

308 nm

HCl,H2,Xe,Ne

EX10

193 nm

F2,Ar,He,Ne

EX50

193 nm

F2,Ar,He,Ne

EX100

193 nm

F2,Ar,He,Ne

Photomedex

XeCl

308 nm

HCl,Xe,Ne

Photoscribe

ArF

193 nm

F2,Ar,Ne

KrF

248 nm

F2,Kr,Ne

PotomacPhotonics

ArF

193 nm

F2,Ar,Ne

KrF

248 nm

F2,Kr,Ne

Spectranetics

XeCl

308 nm

HCl,H2,Xe,Ne



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