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四氟化碳-譜純氣體|氣源充足-工業(yè)四氟化碳

安徽譜純氣體科技有限公司
  • 經(jīng)營模式:生產(chǎn)加工
  • 地址:合肥市經(jīng)開區(qū)翡翠路天時廣場二期2204室
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    四氟化碳-譜純氣體|氣源充足-工業(yè)四氟化碳:
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    四氟化碳物理性質(zhì) :

       熔點-183.6℃,

       分子式是CF4,

      沸點-128.1℃,

      液體密度(-130℃)1.613g/cm3,

      液體折光率(-173℃)1.515,

      固體轉(zhuǎn)變點72.2K,

      臨界溫度-45.67℃,

      臨界壓力3.73MPa,

       蒸氣壓(-150.7℃)13.33kPa

      介電常數(shù)(25℃,0.5MPa)1.0006

      臨界密度:7.1dm3/mol

      標準摩爾自由能:-929.84 kJ/mol

      標準摩爾生成自由能:-887.41 kJ/mol

       危險性類別:第2.2類不燃氣體









    四氟化碳在不同的大氣壓下呈現(xiàn)的狀態(tài)是不同的,就像氧氣在101kPa時會呈現(xiàn)出液態(tài)。四氟化碳是無色、無臭、不燃的可壓縮性氣體,發(fā)揮性較高.在900℃時,不與銅、鎳、鎢、鉬反應,僅在碳弧溫度下緩慢分解,微溶于水,在25℃及0.1Mpa下其溶解度為0.0015%(重量比),然而與可燃性氣體燃燒時,會分解產(chǎn)生有毒氟化物。四氟化碳在900℃時,不與銅、鎳、鎢、鉬反應,僅在碳弧溫度下緩慢分解,微溶于水,在25℃及0.1Mpa下其溶解度為0.0015%(重量比),然而與可燃性氣體燃燒時,會分解產(chǎn)生有毒氟化物。




    四氟化碳是可作為氟和自由基氟化碳的來源,用于各種晶片蝕刻工藝。四氟化碳和氧結合用以蝕刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。因為導致臭氧層破壞的是氟氯烴中的氯原子,它被紫外線輻射擊中時會分離。碳-氟鍵比較強,因此分離的可能性比較低。四氟化碳在900℃時,不與銅、鎳、鎢、鉬反應,僅在碳弧溫度下緩慢分解,微溶于水,在25℃及0.1Mpa下其溶解度為0.0015%(重量比),然而與可燃性氣體燃燒時,會分解產(chǎn)生有毒氟化物。




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